DIN EN 62047-16:2015-12
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DIN EN 62047-16:2015-12

Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices - Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films - Wafer curvature and cantilever beam deflection methods (IEC 62047-16:2015); German version EN 62047-16:2015

Summary

Halbleiterbauelemente - Bauelemente der Mikrosystemtechnik - Teil 16: Messverfahren zur Ermittlung der Eigenspannungen in Dünnschichten von MEMS-Bauteilen - Substratkrümmungs- und Biegebalken-Verfahren (IEC 62047-16:2015); Deutsche Fassung EN 62047-16:2015

Technical characteristics

Publisher Deutsche Institut für Normung e.V. (DIN)
Publication Date 12/01/2015
Page Count 13
EAN ---
ISBN ---
Weight (in grams) ---
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