DIN 50453-2:2023-02
Superseded Draft standard
Historical

DIN 50453-2:2023-02

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of etch rates of etching mixtures - Part 2: Silicium-dioxid coating, optical method
Most recent standard

Summary

Prüfung von Materialien für die Halbleitertechnologie - Bestimmung der Ätzrate von Ätzmischungen - Teil 2: Siliciumdioxid-Schichten, Optisches Verfahren

Technical characteristics

Publisher Deutsche Institut für Normung e.V. (DIN)
Publication Date 02/01/2023
Page Count 8
EAN ---
ISBN ---
Weight (in grams) ---
No products.

Previous versions

No products.
Contact us