DIN 50451-3:2014-11

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of traces of metals in liquids - Part 3: Al, Co, Cu, Na, Ni and Zn in nitric acid with ICP-MS

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of traces of elements in liquids - Part 3: Aluminium (Al), cobalt (Co), copper (Cu), sodium (Na), nickel (Ni), and zinc (Zn) in nitric acid with ICP-MS

Essai des matériaux pour la technologie des semi-conducteurs - Dosage des éléments en traces dans les liquides - Partie 3: Aluminium (Al), cobalt (Co), cuivre (Cu), sodium (Na), nickel (Ni) et zinc (Zn) dans l'acide nitrique par ICP-MS

Essai des matériaux pour la technologie des semi-conducteurs - Dosage des éléments en traces dans les liquides - Partie 3: Aluminium (Al), Arsenic (As), Baryum (Ba), Béryllium (Be), Bismuth (Bi), Calcium (Ca), Cadmium (Cd), Cobalt (Co), Chrome (Cr), Cuivre (Cu), Fer (Fe), Gallium (Ga), Germanium (Ge), Hafnium (Hf), Indium (In), Potassium (K), Lithium (Li), Magnésium (Mg), Manganèse (Mn), Molybdène (Mo), Nickel (Ni), Niobium (Nb), Plomb (Pb), Antimoine (Sb), Étain (Sn), Strontium (Sr), Tantale (Ta), Titane (Ti), Vanadium (V), Zinc (Zn), Zirconium (Zr) en acide nitrique par ICP-MS

Testing of materials for semiconductor technology - Determination of traces of elements in liquids - Part 3: Determination of 31 elements in high-purity nitric acid by ICP-MS