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PR NF ISO 25164 (12/2025)
Revêtements par dépôt physique en phase vapeur — Dépôt de couches minces de TiAlSiN par pulvérisation cathodique magnétron — Spécification
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Summary
Le présent document spécifie les exigences techniques relatives aux couches minces de TiAlSiN déposées par pulvérisation cathodique par magnétron. Le présent document s’applique également au dépôt de couches minces de TiN, TiAlN ou TiSiN.
Technical characteristics
| Publisher | Association Française de Normalisation (AFNOR) |
| Publication Date | 12/01/2025 |
| Release Date | 12/01/2025 |
| Page Count | 13 |
| EAN | --- |
| ISBN | --- |
| Weight (in grams) | --- |
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