IEC 63275-2:2022

IEC 63275-2:2022

IEC 63275-2:2022 Dispositifs à semiconducteurs - Méthode d’essai de fiabilité pour les transistors à effet de champ métal-oxyde-semiconducteurs discrets en carbure de silicium - Partie 2: Méthode d’essai de la dégradation bipolaire due au fonctionnement de la diode intrinsèque

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Détails

L’IEC 63275-2:2022 donne la méthode d’essai et une procédure utilisant cette méthode pour évaluer la dérive de la tension à l’état passant, la dérive de la résistance à l’état passant et la variation de tension de drain inverse des dispositifs MOSFET de puissance en carbure de silicium (SiC) en raison du fonctionnement de la diode intrinsèque. Cet essai n’est généralement pas demandé pour les transistors de puissance en Si.

Informations supplémentaires

Auteur International Electrotechnical Commission (IEC)
Comité TC 47
Edité par IEC
Type de document Norme
Edition révision n° 1
ICS 31.080.30 : Transistors
Nombre de pages 20
Mot-clé IEC63275-2,IEC 63275-2:2022,IEC 63275-2,TC 47